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光罩 EPS 的台式解析:從製程到應用一次搞懂

在半導體產業中,光罩是一種關鍵的耗材,扮演著將電路設計圖轉移到晶圓上的重要角色。本文將深入探討光罩 EPS 的製程、類型、應用以及在台灣產業中的現況,幫助您全面了解這個半導體產業的幕後推手。

目錄

  1. 光罩 EPS 的定義
  2. 光罩 EPS 的製程
  3. 光罩 EPS 的類型
  4. 光罩 EPS 的應用
  5. 光罩 EPS 在台灣產業的現況
  6. 光罩 EPS 的常見問題

1. 光罩 EPS 的定義

光罩 Electromagnetic PhotoSensitive Film),又稱感光膠片或光罩版,是一種塗佈有光敏材料的薄膜,主要用於將電路圖案轉印到晶圓上。在光刻製程中,光罩透過光線照射,將電路圖案曝光在光敏材料上,進而形成圖案。

2. 光罩 EPS 的製程

光罩 EPS 的製程主要包括以下步驟:

  • 基板製作:以石英或玻璃為基板,提供光罩的基礎結構。
  • 光敏材料塗佈:將光敏材料塗佈在基板上,形成對特定波長光敏感的薄膜。
  • 圖案設計:使用電腦輔助設計(CAD)軟體,設計出電路圖案。
  • 光罩寫入:使用雷射光在光敏材料上曝光圖案,形成電路圖案的負片。
  • 蝕刻:將光罩浸泡在化學溶液中,蝕刻掉未曝光的部分,形成電路圖案的陽片。
  • 金屬薄膜沉積:在光罩上沉積一層金屬薄膜,以提高光罩的耐用性和導電性。

3. 光罩 EPS 的類型

根據不同的製程需求,光罩 EPS 可分為以下類型:

  • 正性光罩:曝光後,受光部分會形成固化圖案,而未受光部分會被溶解。
  • 負性光罩:曝光後,受光部分會被溶解,而未受光部分會形成固化圖案。
  • 雙層光罩:使用兩層光敏材料,分別形成正性和負性的圖案,用於複雜的電路設計。
  • 掩模光罩:不使用光敏材料,而是利用金屬薄膜掩蔽電路圖案,用於掩蔽不需要曝光的部分。

4. 光罩 EPS 的應用

光罩 EPS 在半導體產業中具有廣泛的應用,包括:

  • 積體電路(IC)製造:用於將電路設計圖案轉印到晶圓上。
  • 液晶顯示器(LCD)製造:用於形成液晶分子的排列方向。
  • 印刷電路板(PCB)製造:用於製作印刷線路和元件。
  • 半導體封裝:用於保護晶片並連接到電路板。
  • 光學元件製造:用於製造透鏡、稜鏡等光學元件。

5. 光罩 EPS 在台灣產業的現況

台灣是全球光罩 EPS 的主要生產和供應基地之一,擁有數家世界級的光罩製造廠商,包括:

光罩製造廠商 市占率

台積電光罩 60%
陽光光罩 25%
台勝科 10%
文懋科技 5%

台灣的光罩 EPS 產業以高品質、高精度和快速交貨時間著稱,並積極投入先進製程的研發,以滿足半導體產業不斷變化的需求。

6. 光罩 EPS 的常見問題

1. 光罩 EPS 的尺寸規格有哪些?

答:標準光罩 EPS 的尺寸規格為 6 英寸、8 英寸和 12 英寸。

2. 光罩 EPS 的精度要求有多高?

答:光罩 EPS 的精度要求極高,通常需要達 1 奈米或更低,以確保電路圖案的精確轉印。

3. 光罩 EPS 的壽命有多長?

答:光罩 EPS 的壽命會因製程和應用而異,通常可重複使用數十次。

4. 光罩 EPS 的製造過程是否環保?

答:光罩 EPS 的製造過程會產生廢水和廢氣,但現代光罩廠商已採用更環保的技術和材料,以減少環境影響。

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結論

光罩 EPS 是半導體產業中不可或缺的一環,扮演著將電路設計圖案轉移到晶圓上的重要角色。本文深入探討了光罩 EPS 的製程、類型、應用以及在台灣產業中的現況,希望有助您了解這個精密且關鍵的半導體耗材。


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